适用范围
本设备广泛用于高校、科研院所、工矿企业等做粉末、电子、冶金、医药、陶瓷、新材料、化工、金属烧结和金属热处理等实验和生产理想设备。
精密真空气氛炉真空气氛系统：
真空密封系统采用特种设计技术，具有操作安全、方便、真空度高，密封性好，真空保持时间长，密封采用不锈钢金属法兰及O型耐高温氟胶圈密封，气体经过流量计后由针型阀开关进入炉管内，阀控配有进气阀，排气、抽真空阀。减压阀，安全阀，可通多种气体、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体，可充入高压气体，气氛压力限值-0.1MPa，采用*特的密封技术，可长时间保压，安全性能好，操作方便。
精密真空气氛炉主要技术参数：
项 目 | 单位 | 有效使用尺寸 | 有效使用尺寸 | 有效使用尺寸 | 有效使用尺寸 | |||||
炉膛尺寸 | mm | 200X150X150 | 300X200X200 | 500X300X200 | 500X500X500 | |||||
温度类别 | ℃ | 1000℃、1200℃、1400℃、1600℃、1700℃、1800℃ | ||||||||
控制精度 | ±1℃ | |||||||||
温度均匀度 | ≤1 | ≤1℃ | ≤1.5℃ | ≤2℃ | ||||||
加热元件 |
| 根据温度而定，采用**电阻丝、硅碳棒、硅钼棒、石墨。 | ||||||||
电压/频率 | AC/Hz | 220/50 | 380/50 | 380/50 | 380/50 | |||||
设计功率 | KW | 4 | 10 | 15 | 25 | |||||
温控方式 | 微电脑智能调节技术，具有PID调节、全自动控制、自整定功能，多段程序编程，并可编制各种升温、保温、降温程序，控温精度高；集成模块可控硅控制、移相触发。 | |||||||||
保护装置 | 独立温保护、压、流、漏电、短路等保护，自动化程度较高，各项指标达到了**水平 。 | |||||||||
主要附件 | 高温手套，坩埚钳，发热元件，门堵，合格证，说明书，质保书。 | |||||||||
可选配 | 无纸记录仪，有纸记录仪，电脑液晶触摸屏，人机画面 | |||||||||